通過(guò)在膠帶基材的薄膜表面添加各種功能、且能適應(yīng)特定應(yīng)用的表面，可生產(chǎn)出具有多種特性的薄膜產(chǎn)品。具體來(lái)說(shuō)有多種技術(shù)，本文著重講下如何提高薄膜表面導(dǎo)電性：

提高導(dǎo)電性技術(shù)

真空條件下，在膜表面形成導(dǎo)電性納米級(jí)薄膜的技術(shù)，應(yīng)用于柔性印制電路板、觸摸板透明導(dǎo)電薄膜等產(chǎn)品。


濺射沉積技術(shù) 
在氬氣中對(duì)目標(biāo)施加高壓時(shí)，便會(huì)形成 Ar+ 和電子組成的等離子體。 Ar+ 在電場(chǎng)中加速，會(huì)對(duì)目標(biāo)產(chǎn)生影響，最終噴射出目標(biāo)物質(zhì)。 有些情況下，噴射出的原子會(huì)直接沉淀到基膜上，而另一些情況下，如果如氧氣等活性氣體混入氬氣中時(shí)，則會(huì)沉淀出包含目標(biāo)物質(zhì)和氧氣的化合物。 ITO 透明導(dǎo)電膜便屬于后一種，通過(guò)補(bǔ)充 In2O3-SnO2 目標(biāo)物質(zhì)中的氧氣（在分解過(guò)程中失去）形成。